Эпитаксия

Обоснованные решения

Компания предлагает широкий спектр оборудования для эпитаксиального роста от компактных исследовательских систем до многокамерных производственных комплексов. Тщательное моделирование базовых физических процессов, включающее прямые расчеты потока вещества из источника методом Монте-Карло и аналитические тепловые расчеты нагревательных элементов, позволяет конструировать качественное и функциональное оборудование. Используя развитую технологию моделирования, компания разработала оборудование производственного класса для молекулярно-пучковой эпитаксии и магнетронного распыления. Оригинальные источники, нагреватели, заслонки источников, плазменные источники, системы передачи образцов и прочие ключевые компоненты обладают отличными техническими характеристиками и защищены несколькими патентами на изобретения.