Плазмохимическое травление, осаждение, плазменно-стимулированное атомно-слоевое травление и осаждение
Ионно-лучевое травление и осаждение
Установки обеспечивают комплексные решения для исследовательских лабораторий и организации серийного производства. Гибкая конфигурация оборудования позволяет выбрать оптимальный вариант исполнения для реализации процессов PECVD, ICP-RIE, ICP-CVD, IBE. Основные модули платформ могут использоваться как в качестве отдельной установки со шлюзовой загрузкой подложек, так и в составе кластерной системы.
Ниже представлен краткий КАТАЛОГ предлагаемого оборудования.
