Установка вакуумного осаждения с ионно-лучевым распылением мишени IBD-200 предназначена для получения качественных пленок высокой плотности при малых температурах осаждения методом ионно-лучевого распыления мишени. Установка применяется для получения многослойных структур Брэгга, магнито-жестких плёнок, изготовления считывающих головок, основанных на эффекте туннельного магнитосопротивления (TMR) или анизотропного магнитосопротивления (AMR).
Установка IBD-200 реализует осаждение как пленок чистых элементов, так и оксидов и нитридов в режиме реактивного осаждения. Благодаря дополнительному ионному источнику могут быть реализованы режимы предварительной ионной очистки подложки, ионного ассистирования при осаждении и ионно-лучевого травления. Держатель мишеней на 4 позиции позволяет проводить осаждение многослойных структур в одном вакуумном цикле.
Основные особенности
- подложки до 200 мм включительно
- высокая однородность осаждения
- высокая чистота и плотность получаемых пленок
- низкая температура осаждения
- высокая повторяемость
- опциональная конфигурация с двумя ионными источниками
- опциональная система оптического мониторинга осаждаемой пленки
Технические характеристики
| Характеристика |
Значение
|
| Максимальный размер подложки | 200 мм |
| Загрузка подложек | индивидуальная через вакуумный шлюз (опционально – кассетная) |
| Материал технологической камеры | нержавеющая сталь 304SS |
| Подложекодержатель | регулируемое вращение 0-200 об/мин, регулируемый наклон оси вращения 0-150o |
| Диапазон температур | от 0 до +80 oС |
| Подача гелия под подложку для улучшения теплового контакта | есть |
| Прижим подложки | механический |
| Тип и диаметр источника для распыления | ICP 220 мм |
| Тип и диаметр опционального источника для ассистирования/травления | ICP 220 мм |
| Количество и размер мишеней для распыления | 4 шт. диаметр 200 мм, толщина 6,5 мм |
| Линий подачи технологических газов | до 8-ми |
| Система оптического мониторинга осаждаемой пленки | опционально |
| Вакуумная система рабочей камеры | ТМН на магнитном подвесе 2200 л/сек, сухой форвакуумный насос 600 м3/ч |
| Вакуумная система шлюзовой камеры | сухой форвакуумный насос 160 м3/ч |