Турбомолекулярные насосы

MOCVD

Установки Veeco MOCVD - высокотехнологичные системы для химического осаждения металлоорганических соединений из газовой фазы. Данное оборудование широко применяется в производстве устройств VCSELS (3D-зондирование, LiDAR, высокоскоростная передача данных), лазеров с торцевым излучением (оптическая связь, кремниевая фотоника), мини и микро LED дисплеев (смартфоны, портативные устройства, устройства виртуальной реальности).

Установки Veeco MOCVD представлены в следующих вариантах:

  • Lumina - идеальная повторяемость процесса на подложках размером до 8 дюймов

  • Propel - система для осаждения на подложки диаметром до 300мм, возможность кластерной конфигурации с тремя ростовыми камерами.

  • Propel HVM - установка для осаждения на подложки диаметром 150 и 200мм. Для максимальной производительности возможна кластерная конфигурация до 6-ти камер.

  • TurboDisk EPIK 868 - высокопроизводительная система, обеспечивающая нанесение однородных покрытий. Запатентованные технологии IsoFlange и TruHeat формируют ламинарный поток и однородный температурный профиль по всей пластине.

Top