PlasmaPro 800 - производительная система для групповой обработки подложек с непосредственной загрузкой в рабочую камеру. Предназначена, прежде всего, для организации производства. Применяется также в задачах реверсивной инженерии и подготовки фотошаблонов. Хорошо отработанная конструкция установки обеспечивает надежность в эксплуатации, а высокая производительность обеспечивает низкие производственные затраты.
Система на платформе PlasmaPro 800 выпускается в различных вариантах исполнения:
Плазмохимическое осаждение (ПХО, PECVD)
конфигурация применяется для осаждения высококачественных слоев SiO2, Si3N4, SiOxNy, α-Si
Реактивное ионное травление (РИТ, RIE)
выполняет анизотропное травление широкого круга материалов (SiO2, Si3N4, α-Si и т.п.) с использованием F-содержащих газов
Комбинированные системы РИТ/ПХТ (RIE/PE)
применяются для приложений реверсивной инженерии, травления слоев пассивации и диэлектрика
Плазмохимическое травление (ПХТ, PE)
используется для "мягкой" плазменной очистки, доснятия фоторезиста
Технические характеристики
|
Конфигурация |
RIE |
PECVD |
RIE/PE |
PE |
|---|---|---|---|---|
|
Загрузка |
без шлюза |
без шлюза |
без шлюза |
без шлюза |
|
Максимальный размер подложки |
300 мм / 12" |
|||
|
Максимальная загрузка подложек в одном цикле |
43х2", 21х3", 12х4", 5х6", 2х8", 1х12" |
40х2", 21х3", 12х4", 5х6", 2х8", 1х12" |
30х2", 13х3", 8х4", 3х6", 1х8", 1х12" |
30х2", 13х3", 8х4", 3х6", 1х8", 1х12" |
|
Диапазон температур подложкодержателя |
от +10 до +800С |
от +60 до +4000С |
от +10 до +800С |
от +10 до +800С |
|
Подача гелия под подложку для улучшения теплового контакта |
нет |
|||
|
Возбуждение плазмы |
600 или 1200 Вт |
600 Вт |
600 или 1200 Вт |
600 Вт |
|
Максимальное количество линий подачи технологических газов |
8 (12) |
|||
|
Подача газов для легирования |
нет |
|||
|
Подача жидких прекурсоров |
нет |
|||
|
Интерферометр |
опция |
нет |
опция |
опция |
|
Спектроскопия плазмы |
опция |
|||
|
Плазменная очистка камеры между процессами |
есть |
|||
|
Вакуумная система рабочей камеры |
ТМН |
насос Рутса |
ТМН |
ТМН |
|
Система управления |
ПЛК, ПК под управлением Windows 10®, PC4500® |
|||
|
Размер основного блока установки, ДхШхВ, мм |
580х1046х1384 |
|||