Установки Yield Engineering Systems с ручной загрузкой кассет серии YES-PB-HV предназначены для термической обработки и вакуумного отжига. Установки серии YES-PB-HV используют все технические и конструктивные решения серии YES-PB-CP и дополнительно оснащены системой высоковакуумной откачки для эффективного удаления паров воды и следов водорода. Высоковакуумная откачка делает установки серии идеальным решением для проведения процессов дегидратации подложек, активации геттеров, отжига металлический контактов, а также других термических процессов в современных полупроводниковых и МЭМС технологиях.
Температурные зоны установки оптимизированы для высокой однородности температуры и высокого темпа нагрева. Быстрое охлаждение обеспечивает уникальная система охлаждения стенок камеры. ПЛК контроллер позволяет существенно оптимизировать процесс за счет создания программируемых последовательностей нагрева/охлаждения/продувки и их автоматического выполнения.
Подача газа в камеру и откачка рассчитаны на создание вертикального ламинарного потока газа вдоль обрабатываемых подложек, что практически исключает внесение микро и макрочастиц на поверхность во время обработки.
Для эффективного удержания паров растворителей в трассе откачки применена конденсационная ловушка.
Вакуумная дверь обеспечена эффективной системой охлаждения и двойными уплотнениями с продувкой азотом, что гарантирует минимальное содержание кислорода в атмосфере технологической камере.
Загрузка подложек в камеру может осуществляться в оригинальных стальных кассетах YES двух вариантов: облегченный вариант кассеты (low profile), кассета полностью совместимая по размерам со стандартными пластиковыми кассетами SEMI.
Технические характеристики
|
ОСНОВНЫЕ УСТАНОВОЧНЫЕ ДАННЫЕ |
||
|
|
YES-PB8-2P-HV |
YES-PB12-2P-HV |
|
Чистота камеры |
Класс 1 |
Класс 1 |
|
Совместимость с чистыми помещениями |
Класс 10 |
Класс 10 |
|
Максимальный размер подложек |
200 мм |
300 мм |
|
Размеры подложек и количество загружаемых стальных кассет ёмкостью 25 подложек |
50 мм – 9 кассет, 75 мм - 6 кассет, 100 и 150 мм - 3 кассеты, 200 мм - 2 кассеты |
50 мм - 25 кассет, 75 мм - 15 кассет, 100 и 150 мм - 10 кассет, 200 мм - 3 кассеты, 300 мм - 2 кассеты |
|
Внутренние размеры камеры |
диаметр 366 мм, глубина 665 мм |
диаметр 534 мм, глубина 769 мм |
|
Рабочая область камеры с ламинарным потоком для размещения кассет |
239 мм х 459 мм х 247 мм |
375 мм х 566 мм х 360 мм |
|
Общий размер установки |
694 мм х 1453 мм х 1636 мм |
858 мм х 2030 мм х 950 мм |
|
Размер блока управления |
594 мм х 960 мм х 236 мм |
|
|
Материал рабочей камеры |
нержавеющая сталь 316L |
|
|
Вакуумная линия |
Соединение KF40. Минимальные требования: Скорость откачки в точке соединения: 35 м3/час Предельный вакуум: <0,01 торр |
|
|
Вход технологического газа |
1 – стандартно до 3-х входов -опционально |
|
|
Регуляторы расхода газа |
до 3-х входов -опционально |
|
|
Расход азота |
15-25 л/мин |
|
|
Фильтр ламинарного потока |
Плоский фильтр 100 микрон MottTM |
|
|
Вес системы |
420 кг |
600 кг |
|
Электропитание |
380 ВА, 3 фазы, 40 А, 50 Гц |
380 ВА, 3 фазы, 60 А, 50 Гц |
|
ПРОГРАММНОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ |
||
|
Система управления |
Контроллер ПЛК с сенсорным экраном |
|
|
Количество технологических последовательностей |
8 |
|
|
Максимальное количество шагов для каждой последовательности |
16 |
|
|
Диапазон устанавливаемого времени экспозиции |
0-99 час |
|
|
Минимальный интервал программирования шага последовательности |
1 мин |
|
|
ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
||
|
Обеспечение чистоты процесса |
Вертикальный ламинарный поток газа снижает количество частиц в большинстве технологических процессов |
|
|
Диапазон давлений процесса с реализацией ламинарного потока вдоль подложек |
50-400 торр |
|
|
Максимальная температура нагрева |
450 0С (опционально 550 0С) |
450 0С
|
|
Однородность температуры в зоне обработки |
± 5 °C (после стабилизации всех температурных зон установки в течении 15 мин, для пустой камеры под давлением выше 50 торр) |
|
|
Средняя скорость нагрева (150-450 0C) |
4.0 °C/мин |
6.5 °C/мин |
|
Средняя скорость охлаждения (450-150 0С) |
4.0 °C/мин |
3.5 °C/мин |
|
Содержание O2 в атмосфере камеры |
10 ppm |
|
|
Базовое давление в камере |
10-5 торр |
|
|
СТАНДАРТНЫЕ ОПЦИИ |
||
|
Максимальная температура нагрева |
550 0С |
- |
|
Технологические газы |
1-3 линии |
|
|
Цифровые регуляторы расхода газа (РРГ) |
На каждую/любую из установленных линий |
|
|
Мониторинг содержания O2 |
Непрерывный мониторинг содержания O2 на выхлопе технологической камеры |
|
|
Автомат регулирования давления |
Измерение давления на выхлопе камеры и вакуумный затвор переменного сечения с автоматикой поддержания заданного давления |
|
|
Контроль температуры |
Комплект вводов и термопары для калибровки температуры внутри зоны обработки |
|
|
Протоколирование работы и мониторинг |
Компьютер и ПО YES-DAQ или связь сетью предприятия по протоколу SECS/GEM. |
|