Серия SWC 3000/4000

Установки серии SWC Производства NANO-MASTER обеспечивают высокое качество очистки пластин, подложек и фотошаблонов за счет применения последних разработок в технологии мегазвуковой и химической очистки. В стандартном исполнении установка SWC обеспечивает операции: сушки (с высокоскоростным вращением, ИК-нагревом и продувкой азотом), химической чистки и чистки щеткой. При этом установка оснащается мегазвуковой насадкой для деионизованной воды, независимыми дозаторами химических веществ и инфракрасной лампой. Перемещение дозирующего сопла осуществляется с помощью запатентованного механизма, который обеспечивает равномерное распределение энергии по подложке. Для улучшения очистки могут быть добавлены дополнительные опции, такие как щетка PVA или ионизация азота.

Установка SWC 3000 – это настольная установка для очистки пластин круглой формы диаметром до 12'' и фотошаблонов 7''x7''. Установка оснащена ИК лампой, модулем распределения химикатов и раздельным сливом для кислот и растворителей. Управление осуществляется посредством микропроцессора. Также к установке может быть добавлен ряд опций.

Функции установки SWC-3000:

• очистка пластин или подложек с нанесенным или не нанесенным рисунком
• очистка подложек Ge, GaAs, InP
• очистка пластины после химико-механической полировки
• очистка отдельных кристаллов на пяльцах
• очистка после плазменного травления или снятия фоторезиста
• очистка фотошаблонов со слоем фоторезиста и шаблонов для контактной литографии
• очистка оптических линз

Установка SWC-4000 представляет собой отдельный модуль, состоящий как из блоков, используемых в установке SWC-3000, так и некоторых дополнительных. Помимо операций выполняемых установкой SWC-3000, модель SWC-4000 может выполнять следующие функции:

• очистка фотошаблонов типа UV и X-ray
• очистка панелей с ITO покрытием
• мегазвуковая очистка для процесса обратной литографии