Вакуумное и магнетронное осаждение, плазмохимическое травление и осаждение, атомно-слоевое осаждение, очистка

Системы ионно-лучевого травления NANO-MASTER NIE-400

Системы ионно-лучевого травления NANO-MASTER NIE-4000 - это проверенные на практике, автоматизированные системы, простые в использовании, обеспечивающие высокую воспроизводимость результата и надёжную работу с отличной однородностью подложек.

Подложкодержатели, применяемые в системах ионно-лучевого травления NANO-MASTER, имеют возможность наклона в диапазоне ±90°, вращения, охлаждения водой или жидким азотом, а также гелиевый тепловой контакт с обратной стороны подложки. Для процессов, чувствительных к температуре, технологии NANO-MASTER предоставляют возможность поддерживать температуру подложки ниже 70°C. Нагрев также возможен с помощью нагревательного элемента, встроенного в узел рабочей платформы. В некоторых случаях нагрев образцов выше 150°C желателен для повышения летучести материалов, подвергаемых травлению и соответственного увеличения скорости травления. Наклоняя образец, можно контролировать профиль боковой стенки и оптимизировать радиальную однородность процесса.

Источники типа RF ICP, совместимые с химически активными газами, обеспечивают селективность травления и повышение его скорости. Может быть предусмотрена возможность напыления для покрытия свежетравленных металлических поверхностей для защиты от окисления. Доступна загрузочная камера с турбомолекулярным насосом, а также возможность автоматической загрузки и разгрузки.

NANO-MASTER может предложить пользователю двухкамерные системы с RIE и ионно-лучевым травлением в качестве системы, способной травить очень широкий спектр материалов, или систему распыления и ионно-лучевого травления для травления решёток и нанесения покрытия на них. Две камеры соединены между собой, с опцией автоматической загрузкой пластины и передачи её между камерами, без нарушения вакуума в течение процесса. Такая двойная система снижает стоимость оборудования, а также компактней и эргономичней в сравнении с двумя отдельными системами за счет использования общей насосной системы, источников питания и управляющей электроники.

Технические характеристики

Параметр Значение
Рабочая камера 14 или 20", кубической формы, материал - нержавеющая сталь
Максимальный размер подложки 6” (DC)/ 8” (RF)
Диаметр ионного источника (DC) максимум 16 см
Ток ионного источника (DC) >650mA
Диаметр ионного источника (RF) максимум 20 см
Ток ионного источника (RF) >800mA
Затвор Пневматический
Платформа скорость вращения до 20 об/мин, наклон в пределах ±90°, водяное или азотное охлаждение
Базовое давление 5x10-7 торр с турбонасосом 260 л/с, 3x10-7 торр с турбонасосом 680 л/с, 8x10-8 торр с турбонасом 1240 л/с в камере диаметром 14"
РРГ (реактивные и инертные газы) Ar, O2, CF4
Системное управление Управление с ПК с помощью ПО LabVIEW
Загрузка и разгрузка пластин Ручная и автоматическая
Занимаемая площадь 26” x 44”
Внешнее подключение
Электропитание 208/380/415 В, 20 A/на фазу, 50/60 Гц
Вода охлаждения 7,5 л/мин, 3-4 бар, 18°C
Сжатый воздух 1/4” Swagelok, 5,5 - 6,2 бар
Технологические газы 1/4” Swagelok, 1,4 бар
Азот для продувки 1/4” Swagelok, 1,4 бар
Выхлоп NW25
Top