Системы контроля толщины пленок

LEP 500

Интерферометр LEP 500 предназначен для контроля толщины травления или осаждения в режиме реального времени. Отраженное от поверхности пленка-вакуум и внутренней поверхности пленка-подложка монохроматическое излучение маломощного лазера суммируется в приемнике интерферометра. Оптическая разность хода двух отраженных лучей образует максимумы и минимумы интерференционной картины, которые могут быть пересчитаны в толщину пленки. Лазерный интерферометр успешно применяется для контроля толщины осаждаемой пленки и определения момента окончания травления одно- и многослойных структур широкого спектра материалов микроэлектроники: SiN, SiO2, GaAs, InP, AlGaAs, GaN и т.п.
Интерферометр LEP 500 представляет собой законченный комплект оборудования и программного обеспечения, который может быть установлен на существующие системы плазмохимического травления и осаждения или включен в состав системы уже на этапе проектирования и производства.
Программное обеспечение EtchDirector с графическим интерфейсом автоматизирует обработку интерференционных данных и определяет момент окончания осаждения или травления по заданным критериям. Для отображения данных может использоваться отдельный один (или два) монитор(а) или монитор системы управления установкой.
Базовый комплект LEP 500 включает:

  • лазерную головку с источником излучения, оптической системой, детектором и ПЗС камерой для наблюдения за поверхностью подложки
  • X-Y столик с ручным приводом для позиционирования лазерной головки
  • блок управления в корпусе 19"x4U с программным обеспечением EtchDirector

Опционально интерферометр может быть оснащен:

  • расширением цифрового ввода/вывода для интеграции в систему управления установкой
  • X-Y столиком с электроприводом

Технические характеристики

Параметр

Значение

Длина волны излучения

670 или 980 нм

Дистанция до подложки (основное положение)

150-700 мм

Диапазон допустимого отклонения от основного положения

±140 мм

Размер пятна излучения при расстоянии до подложки 150(600) мм

8(25) мкм

Типичная точность определения момента окончания травления кремния на подложке КНИ

±2.5 нм

Скачать

Top