Турбомолекулярные насосы
Многоволновой эллипсометр FS-1 Film Sense на основе 4-х или 6-ти светодиодных источников света c гарантированным временем работы не менее 50 000 часов. Конструкция эллипсометра не содержит движущихся частей в детекторном блоке и позволяет провести сбор данных для измерений в одной точке образца для всех длин волн за 10 мсек. При большом времени накопления сигнала (~ 1 сек) обеспечивается точность измерения толщины до 0,001 нм. Для прозрачных пленок максимальная измеряемая толщина составляет не менее 1 мкм.
Программное обеспечение использует пользовательский интерфейс на основе веб-браузера и не требует установки на управляющем компьютере. Реализованы простые в использовании режимы для проведения однократных, непрерывных и динамических измерений, калибровки и тестирования датчика, а также для построения и тестирования моделей анализа данных.
При обработке данных реализуется традиционный подход к анализу методом наименьших квадратов. Модели построены путем простого выбора материалов для подложки и слоя (слоев) и определения параметров модели (таких как толщина слоя, угол падения измерительного луча, показатель преломления и т. д.). Алгоритм регрессии автоматически корректирует параметры модели, чтобы минимизировать разницу между рассчитанными и измеренными эллипсометрическими данными модели, что приводит к «наилучшим образом подходящим» значениям для параметров подгонки.
Многоволновые эллипсометры Film Sense являются экономичной заменой спектрального эллипсометра и идеально подходят для быстрого решения задач контроля и измерения как в лабораториях, так и на производстве. Данные эллипсометры отличают низкие капитальные и эксплуатационные затраты, надежность и долговечность в работе.
Для оптимального решения задач Заказчика выпускаются несколько модификаций эллипсометра с различным числом и длинами волн источника.
Модель FS-1 Gen. 2 представляет собой 4 –х волновую версию (450 - 660 нм), которая идеально подходит для измерений прозрачных пленок 0 - 2000 нм и «металлических» пленок толщиной до 50 нм.
Модель FS-1EX - базовая 6-ти волновая версия с диапазоном 405 - 950 нм предназначена для измерения прозрачных пленок толщиной 0-5000 нм и поглощающих пленок (poly-Si, SiGe, a-Si) толщиной до 200 нм.
Модель FS-1UV - 6-ти волновая версия, включающая два источника УФ диапазона (280 и 305 нм) выше запрещенной зоны большинства полупроводниковых материалов. Что позволяет улучшить чувствительность к составу измеряемой пленки и улучшенный контраст коэффициента преломления при измерениях на прозрачных подложках и пленках.
длина волны (нм) |
|||||||||||||
система | кол-во светодиодов |
280 | 305 | 405 | 450 | 465 | 525 | 595 | 635 | 660 | 850 |
950 | |
FS-1 gen 2 |
4 | x | x | x | x | ||||||||
FS-1EX | 6 | x | x | x | x | x | x | ||||||
FS-1UV | 6 | x | x | x | x | x | x |
Эллипсометр предлагается в нескольких исполнениях:
Образец |
Параметр |
Точность |
Достоверность |
2 нм естественный оксид на Si |
Толщина |
0.092 нм |
0.00094 нм |
50 нм оксид на Si (NIST SRM) |
Толщина Коэффициент преломления @ 633 нм |
0.32 нм
0.014 |
0.007 нм
0.00016 |
100 нм оксид на Si |
Толщина Коэффициент преломления @ 633 нм |
0.18 нм
0.0004 |
0.002 нм
0.00002 |
1000 нм оксид на Si |
Толщина |
1.0 нм |
0.0048 нм |
100/50/100 нм SiO2/Si3N4/SiO2 на Si |
SiO2 Толщина Si3N4 Толщина SiO2 Толщина |
0.54 нм 1.0 нм 1.4 нм |
0.0049 нм 0.0096 нм 0.013 нм |
6 нм TiO2 на Si |
Толщина Коэффициент преломления @ 633 нм |
0.066 нм
0.051 |
0.0014 нм
0.0008 |
70 нм Al2O3 на Si |
Толщина Коэффициент преломления @ 633 нм |
0.17 нм
0.0007 |
0.0014 нм
0.000046 |
500 нм Si3N4 на Si |
Толщина Шероховатость Коэффициент преломления @ 633 нм k @ 633 нм |
2.7 нм 0.52 нм
0.011 0.0006 |
0.048 нм 0.0056 нм
0.00017 0.000015 |
130 нм SiO2 на Au |
Толщина Коэффициент преломления @ 633 нм |
1.8 нм
0.0076 |
0.0039 нм
0.000021 |