Mollis RPS

Mollis RPS - Высокочастотный источник удаленной плазмы

Mollis RPS – высокочастотный источник индуктивного типа, предназначенный для обработки активными радикалами; травления, очистки, удаления фоторезистивных материалов в микроэлектронном производстве. Источник позволяет обрабатывать даже самые чувствительные образцы без их повреждения заряженными частицами плазмы. Высокая скорость обработки достигается за счет большой концентрации активных радикалов. Источник обеспечивает генерацию низкотемпературной газоразрядной плазмы низкого давления с концентрацией электронов 10¹⁰–10¹³ см^-3 при давлениях 10-100 Па.
Представляет собой индуктивный источник с кварцевым разрядным реактором и цилиндрической спиральной антенной системой, работающей на частоте 2.64 МГц.

Основные достоинства

• Низкая энергий электронов и ионов плазмы (T_e < 5 эВ; T_i < 0.15 эВ)
• Высокая степень диссоциации технологических газов (около 90%)
• Компактное исполнение со встроенной автоматизированной высокочастотной системой питания
• Разрядная система источника плазмы выполнена из керамики или кварца (в конструкции устройства отсутствуют силиконовые и другие виды заливочных компаундов)