Турбомолекулярные насосы
Интерферометр LEP 500 предназначен для контроля толщины травления или осаждения в режиме реального времени. Отраженное от поверхности пленка-вакуум и внутренней поверхности пленка-подложка монохроматическое излучение маломощного лазера суммируется в приемнике интерферометра. Оптическая разность хода двух отраженных лучей образует максимумы и минимумы интерференционной картины, которые могут быть пересчитаны в толщину пленки. Лазерный интерферометр успешно применяется для контроля толщины осаждаемой пленки и определения момента окончания травления одно- и многослойных структур широкого спектра материалов микроэлектроники: SiN, SiO2, GaAs, InP, AlGaAs, GaN и т.п.
Интерферометр LEP 500 представляет собой законченный комплект оборудования и программного обеспечения, который может быть установлен на существующие системы плазмохимического травления и осаждения или включен в состав системы уже на этапе проектирования и производства.
Программное обеспечение EtchDirector с графическим интерфейсом автоматизирует обработку интерференционных данных и определяет момент окончания осаждения или травления по заданным критериям. Для отображения данных может использоваться отдельный один (или два) монитор(а) или монитор системы управления установкой.
Базовый комплект LEP 500 включает:
Опционально интерферометр может быть оснащен:
Параметр |
Значение |
Длина волны излучения |
670 или 980 нм |
Дистанция до подложки (основное положение) |
150-700 мм |
Диапазон допустимого отклонения от основного положения |
±140 мм |
Размер пятна излучения при расстоянии до подложки 150(600) мм |
8(25) мкм |
Типичная точность определения момента окончания травления кремния на подложке КНИ |
±2.5 нм |